苏大维格申请一种微纳结构的制备方法、压印模板和防伪制品专利，提高效率及成品率

2024-10-08 次浏览

金融界 2024 年 8 月 14 日新闻，天眼查常识产权信息显示，姑苏苏年夜维格科技团体株式会社申请一项名为“一种微纳布局的制备办法、压印模板和防伪成品“，公开号 CN202410779688.1，申请日期为 2024 年 6 月。

专利择要显示，本创造涉及光刻印刷范畴，分外涉及一种微纳布局的制备办法，以及制备获得的压印模板和压印获得的防伪成品。经由过程待制备的微纳布局的远景图案和配景图案得到直写图文和光栅图文，直写图文中包含多个直写光刻单位。将光栅图文中的像素点分离映射至直写图文，将辨认出坐标雷同的重合像素点。删除光栅图文中于重合像素点对应的像素点获得调整图文。应用调整图文进行干预光刻，应用直写图文进行直写光刻，获得微纳布局。经由过程像素点映射的方式，形成可精准对位的文件进行光刻，勤俭工序，进步效力及制品率，且光刻后的布局没有重合叠加部门，具有更好的光学后果，实现了高分辩率年夜幅面的微米级光刻布局和纳米级光刻布局的复合。