精测电子申请基于深度学习的点缺陷特征还原方法专利，提高缺陷分类的准确性和效率

2024-08-30 次浏览

金融界 2024 年 8 月 14 日新闻，天眼查常识产权信息显示，武汉精立电子技术有限公司、武汉精测电子团体株式会社申请一项名为“一种基于深度进修的点缺陷特性还原办法“，公开号 CN202410670906.8，申请日期为 2024 年 5 月。

专利择要显示，本创造提供了一种基于深度进修的点缺陷特性还原办法，经由过程光学拍摄和相机取像，捕获统一类型的点缺陷在屏幕分歧区域的形态，经由过程裁切获得多少缺陷小图，依据缺陷小图，树立统一类点缺陷在中心区域与非中心区域的图像对数据集，颠末深度进修收集训练获得具有还原功效的收集模子，基于该收集模子可将非中心区域的点缺陷映射成该缺陷在中心区域应有的形态和灰阶特性，再对还原后的图像进行缺陷分类。本创造办法办理了因缺陷形态差别年夜造成的分类艰苦问题，补充了惯例校订算法的不敷，进步了缺陷形态回复复兴的靠得住性，从而进步缺陷分类的精确性和效力。